микробиологические риски асептического производства

Эти системы не всегда могут быть стерилизованы и не всегда имеют передаточные устройства, исключающие прямой контакт внутреннего объема оборудования с окружающей средой. Конструкция барьера может быть разной: от пластиковых занавесей, ограждающих критическую зону по ее периметру, до жестких стенок и применения систем «перчатки-рукава», полукостюмов и передаточных устройств. Применение этих систем позволяет обеспечить уровень стерильности 10-4 – 10-5.Система RABS становится изолятором, когда выполнены все требования к изоляторам. Если эти требования не выполнены, то можно говорить о снижении риска для продукции, но применять существенно упрощенные требования к чистоте окружающего помещения, предусмотренные правилами GМР для изоляторов, нельзя. Саму систему следует рассматривать как открытый процесс, хотя и с повышенной степенью защиты. Отдельное место занимают системы Blow-Fill-Seal (выдувание – наполнение – герметизация). В них из термопластичного гранулята формируются упаковки, а затем происходит наполнение продуктом и герметизация.Эти операции выполняются в пределах одного автоматического комплекса оборудования, в течение одного технологического цикла (правила GМР – ГОСТ Р 52249-2009).Большая частьоперация микробиологического синтеза осуществляется с чистыми культурами микроорганизмов. В микробиологическом производстве имеет местосовокупность мероприятий, которые обеспечивают сохранность чистоты культуры на всех этапах технологического цикла. К указанным мероприятиям относятся: стерилизация оборудования и коммуникаций, обеспечение их герметичности, стерилизация питательных сред и аэрирующего воздуха, специальные методы отбора проб, внесения в аппарат питательных веществ, пеногасителей и посевного материала и др.Необходимость обеспечения асептических условий в биотехнологических процессах вызвано следующими причинами. Во-первых, посторонние микроорганизмы-контаминанты потребляют питательные вещества и выделяют метаболиты, которые тормозят рост основной культуры. Наиболее распространенные контаминанты характеризуются очень высокими скоростями роста (до 2—3 ч'1) по сравнению с основной культурой. Во-вторых, развитие контаминантов неконтролируемо изменяет оптимальный режим роста и развития основной культуры. В-третьих, наличие в культуральной жидкости посторонней микрофлоры и продуктов ее жизнедеятельности нередко сильно затрудняет выделение целевого продукта и снижает его качество. Имеются и другие причины, обусловливающие необходимость соблюдения асептических условий культивирования.Посторонняя микрофлора может попасть в ферментёр с водой, воздухом или с любым из видов сырья. Например, содержание микроорганизмов в 1 мл воды из артезианских скважин около 104, из городского водопровода — 103—10, из рек или водохранилищ — 104— 106, в сточных водах — 108—1012. Среди них аэробные сапрофитные микроорганизмы, наиболее опасные с точки зрения загрязнения биотехнологических процессов, составляют 0,1 — 1%. Содержание микроорганизмов в воздухе сильно колеблется в зависимости от района, в котором берут пробу, и составляет от 100 до 10 000 в 1 м3. В непосредственной близости от микробиологических производств обсемененность воздуха резко возрастает. Практически все виды используемого сырья в той или иной степени обсеменены микроорганизмами.Следование правилам асептики несетогромное значение для асептического производства. В случае наличияуперсонала, который принимает участие в технологических операциях,превышенияопределенных границзагрязнения или проявлениянеблагоприятнойтенденциизагрязнения в кратчайшие сроки должно быть проведено расследованиеи предприняты следующие действия: увеличение числа отборов проб; увеличение наблюдения и контроля; проверка порядкасены одежды; проведение повторного обучения; проведение переаттестация; в сложных случаях –отстранение работника от участия в асептическом производстве и перевод его на другой участок.Компоненты риска микробиологического загрязнения и составляющие их факторы для процесса асептической фасовки препарата для парентерального применения (диаграмма Исикавы) показана на рис.6.Рис.6Диаграмма Исикавы